普樂斯總經(jīng)理參加第五屆低溫等離子體基礎研討會——深化等離子技術交流與創(chuàng)新
文章導讀：2025年4月25-27日，由中國力學學會等離子體科學與技術專業(yè)委員會主辦的第五屆低溫等離子體基礎研討會在上海順利召開，聚焦低溫等離子體領域的前沿技術交流學習。
2025年4月25-27日，由中國力學學會等離子體科學與技術專業(yè)委員會主辦的第五屆低溫等離子體基礎研討會在上海順利召開。普樂斯總經(jīng)理郭峰受邀參加此次行業(yè)盛會，與國內(nèi)外高校及科研機構的行業(yè)學者共聚一堂，聚焦低溫等離子體領域的前沿技術交流學習。
一、聚焦基礎研究
本次研討會以“低溫等離子體基礎研究的新進展與學科交叉”為核心，圍繞低溫等離子體理論模型、數(shù)值模擬、實驗診斷、應用研究等主題展開深入探討。會議通過學術報告與座談討論相結合的形式，為與會者搭建了技術互通、思想碰撞的平臺。
二、產(chǎn)學研協(xié)同
近年來，低溫等離子體技術在新能源、半導體、環(huán)保等領域的應用不斷拓展，其基礎研究的突破對行業(yè)升級至關重要。郭峰在會議期間積極與東華大學、復旦大學等科研團隊展開交流，探討產(chǎn)學研合作的可能性。
三、不忘初心，持續(xù)學習
繼2024年出席首屆中國真空表面工程學術交流會以來，普樂斯始終以開放姿態(tài)擁抱行業(yè)變革。此次參會不僅彰顯了企業(yè)對技術研發(fā)的重視，更體現(xiàn)了普樂斯與學術界緊密聯(lián)動、共謀發(fā)展的決心。未來，公司計劃將會議中汲取的創(chuàng)新思路與實驗成果融入產(chǎn)品開發(fā)，推動低溫等離子體技術在表面處理領域的高效應用，助力行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。
繼2024年出席首屆中國真空表面工程學術交流會以來，普樂斯始終以開放姿態(tài)擁抱行業(yè)變革。此次參會不僅彰顯了企業(yè)對技術研發(fā)的重視，更體現(xiàn)了普樂斯與學術界緊密聯(lián)動、共謀發(fā)展的決心。未來，公司計劃將會議中汲取的創(chuàng)新思路與實驗成果融入產(chǎn)品開發(fā)，推動低溫等離子體技術在表面處理領域的高效應用，助力行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。
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