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普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，三星規(guī)劃利用3納米工藝制造芯片

返回列表 來源：普樂斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2020-01-03 10:13【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，據(jù)韓國媒體報導(dǎo)，三星電子的領(lǐng)導(dǎo)人李在镕近日探討了三星將規(guī)劃首fa3nmGAA制程芯片的戰(zhàn)略規(guī)劃。
普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，該報導(dǎo)稱，李在镕參觀了三星電子地處京畿道華城的半導(dǎo)體研發(fā)中心。這也是李在镕在2020年的第1個官方行程，在此期間他聽取了三星電子3nm制程技術(shù)報告，并且跟半導(dǎo)體部門主管探討了全新一代半導(dǎo)體戰(zhàn)略。
普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，三星規(guī)劃利用3納米工藝制造芯片
據(jù)稱，李在镕探討了三星規(guī)劃運用正研發(fā)中的新式3nmGAA制程技術(shù)來制造尖duan晶片的規(guī)劃。GAA被認(rèn)為是當(dāng)前FinFET技術(shù)的升級版，能確保芯片制造商進(jìn)一步縮小體積。
 
去年4月三星電子完成了運用EUV的5nmFinFET制程技術(shù)的研發(fā)?，F(xiàn)如今該公司正研究下一代制程技術(shù)。三星電子表示，與5nm制程相比，3nmGAA技術(shù)的邏輯面積效率提升了35%以上，功耗減低了50%，性能提升了約30%。
普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，三星規(guī)劃利用3納米工藝制造芯片
這一舉動也照應(yīng)三星之前所講的，將全力進(jìn)攻非DRAM與NANDFlash晶片的半導(dǎo)體市場，在去年，三星宣布了一項折合高達(dá)1118.5億美元的投資計劃，目的是要讓三星可以成為世界上zui大的半導(dǎo)體芯片制造商。

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