半導體封裝行業(yè)用到的等離子清洗設備有哪些種類?
1、按等離子清洗設備的運行方式：分為獨立式等離子清洗設備和在線式等離子清洗設備
（1）獨立式（又叫離線式、單體式、批量式等）等離子清洗設備主要結構包括：真空腔體（包含電極；又叫反應腔、反應倉、反應室等）、設備外殼、電氣控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、等離子發(fā)生器（包括電源和匹配器）和真空系統(tǒng)。
（2）在線式（又叫連續(xù)式、不間斷式等）等離子清洗設備主要結構包括：上下料推送機構、上下料放置平臺、上下料提升系統(tǒng)、上下料傳輸系統(tǒng)、上下料撥料機構、真空腔體、設備主體框架、電氣控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、等離子發(fā)生器（包括電源和匹配器）和真空系統(tǒng)。
在線式等離子清洗設備是在獨立式的基礎上，為滿足對表面處理均勻性、一致性品質(zhì)要求更高，以提高自動化程度，減少人工參與等需要設計而成。
2、按等離子產(chǎn)生的激勵方式分為：電容耦合（CCP）、感應耦合（ICP）和電子回旋共振（ECR）等
3、按等離子發(fā)生器的工作頻率來分：中頻（又叫低頻、超聲40?100KHz），高頻（又叫射頻13.56MHz），微波（2.45GHz）
發(fā)頻率與等離子自偏壓的關系
激發(fā)頻率與等離子密度的關系
不同頻率激發(fā)的等離子體特性和能量是不一樣的，對于側重物理清洗的產(chǎn)品，用中頻等離子清洗設備比較合適；側重化學清洗的產(chǎn)品，采用微波等離子清洗設備；化學物理反應兼顧的，建議使用射頻等離子清洗設備。當然，等離子激發(fā)頻率只是等離子產(chǎn)生的核心因素之一，等離子清洗設備的電極結構、工藝氣體、真空度、處理時間等等，同樣是影響清洗效果的關鍵。
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